英伟达B200掀算力革命，大图热控站上液冷之巅

2024年3月19日，英伟达举办了GTC大会，GTC全称 GPU Technology Conference，是AI和深度学习领域的大会，是全球范围内GPU开发者的行业聚会。

英伟达创始人兼CEO黄仁勋在大会上展示了Blackwell，一款为生成式AI而设计的新一代GPU平台，它拥有2080亿个晶体管，是世界上目前***的GPU平台。Blackwell能实现更大模型的训练和拥有更强劲的算力性能，与Hopper相比，由两片B200组成的GB200在GPT-3模型的基准测试中，性能是H100的7倍、训练速度则提高了4倍。

B200不仅性能上实现了显著提升，还引入了创新的液冷散热技术，取代了以往的风冷散热方案。黄仁勋认为，液冷技术将为未来发展趋势，并有望引领整个散热市场进行变革。从B200开始，英伟达以后所有产品都将采用液冷散热技术。

为了满足高功率芯片的散热需求，大图热控采用创造性、颠覆性的技术，研发出热流密度高达210W/cm²的液冷板新品（芯片1500W功率，面积7cm²），打开了全球散热领域的天花板。目前，业界传统液冷板的热流密度大部分小于100W/cm²，很难满足高算力芯片的散热需求。大图热控凭借创新的设计和精密的制造工艺，开发出千瓦级新品，已通过多家头部客户性能验证，下半年将进行批量交付。

大图热控致力于成为大功率芯片液冷的领导企业，两位创始人是清华大学热能系毕业的硕士和博士，曾在国际知名散热公司AVC工作多年，在散热领域具有30年行业经验。公司自建工厂，年产能20万片，拥有多项发明和实用新型专利，获评姑苏领军，并已通过ISO9001质量体系认证。（大图热控官网http://designtocool.com）

英伟达全新B200 GPU的推出，标志着液冷散热技术在AI服务器领域的广泛应用。在这场技术变革中，率先采用液冷技术的AI服务器厂商将占据市场优势，赢得更广阔的发展空间。